TECHNOLOGY
ガラス基板の高精細回路パターン形成
薄膜技術
アルミスパッタリングによるパターン形成で、ガラス基板上に印刷では不可能なレベルの高精細回路形成が可能です。
パターンの黒色処理（ノリタケの独自技術）や、透明導電膜（ITO膜）の形成も対応します。
最大500mmの大きなガラス基板への、高い位置精度での形成も得意としています。
VFD製造時の量産レベル
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配線ピッチ |
30μm～ |
| 配線幅 | 15μm～ |
| 配線色 | 銀色（ミラー）、黒色 |
| スパッタ材料 | アルミニウム、ITO（酸化インジウムスズ）、SiO2等 |
| 基板素材 | ガラス |
| VFDでの使用箇所 | ガラス基板回路形成 |
※量産レベルを上回る仕様でもご相談ください。
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薄膜技術
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ガラス基板の高精細回路パターン形成
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